重庆某半导体技术集成电路芯片研发厂，晶圆加工正确净化处理的时候中存在含硅、氟的特殊的废污水，设定正确净化处理人数1200吨/日。废污水有效成分很复杂，有納米级硅颗粒状及氢氧化钠，传统式正确净化处理方案不易于合格。 生产废水化学物质及来历 主耍环境工业废气 ：悬浊液硅（100-500nm粒度）、氟铝离子（200-300mg/L）、异丙醇 来自多种工序 ：晶圆刻蚀废污水（45%）、CMP电学物理拋光废污水（40%）、机械擦洗水（15%） 工作生产工艺注意事项 创新发展按照"化工析出+珍禽膜剥离"技艺交通路线： 钙盐结晶 ：加药氯化钙避开氟铁离子（提取CaF2积累） 水解酸化池响应 ：软型水解酸化池剂完成氢氧化铁硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜截流微细颗粒剂 反渗透装置性和系統 ：脱盐率>98%，的回收利用率75% 挥发心得 ：浓水段实现目标氟化物零进行排放 终极治疗效果 氟化物酸度：<8mg/L（达不到欧洲国家3级标准化10mg/L） 硅水平：<5mg/L 水自然资源回收率：70%适用于圆形逆流式冷却塔塔补充水分 垃圾减量化：多效蒸发沉渣量较传统文化生产技术缩短60%