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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆研发厂靠近华中地,关键工作85英寸半导体技术晶圆,平均废水处理排放出物量约800吨。致使工作工作中的使用过量氢氧化钠做出晶圆蚀刻,引发废水处理中氟化物渗透压超过200-300mg/L,远超祖国排放出物标准规范(10mg/L左右)。 废液成分表及种类 废液一般出于5个基本原则: 晶圆蚀刻生产工艺 :含高有机废气浓度氟化物(HF)、硝酸银及少许巨资属 化学式机械设备增加光泽(CMP)废渣 :含纳米级级硅科粒、有机的络合剂 机 冲洗化工废水 :含异丙醇、高锰酸盐指数等巧妙物 治理 工艺程序图流程图 选择"化学式奠定+混凝土奠定+深度.活性炭过滤"3级工作机系统: 1阶段补救 :加药氯化钙和氢被氧化钙,转变成氟化钙析出,氟化物除掉率达85% 二次元整理 :移除PAC(配位聚铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),剔除悬浊液态空气有害物质 三类净化处理 :确认多媒质滤水器和气体吸附性炭气体吸附,水流氟化物溶度安全在8mg/L下 重点系统软件也包括:pH自己调系统软件、斜管结晶池、板框刮刀离心机(厌氧颗粒污泥脱水情况)。 决定性功效 品牌正常运作两年监测技术数据统计显现: 氟化物分別酸度:7.2mg/L(不高于国家的标准) COD除掉率:92% 厌氧颗粒污泥含水量率:≤65% 年出售氟化钙副商品约150吨,做到网络综合采用采用

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